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​​高纯铜靶坯（5N-8N）

特征​

高纯铜靶胚是利用高纯铜板经熔铸轧制而成

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  • ​​晶粒尺寸均匀稳定
  • 靶坯表面清洁光滑，无指痕、油污和绣蚀，无颗粒附加物和其他沾污，无凹痕、划伤、裂纹、凸起等缺陷
  • 靶坯内部无夹杂和气孔等缺陷
  • 全真空包装，保证商品纯度稳定
检测报告​
​​​​​我们将产品送到EAG对产品的品质进行检测，以保证我们的产品的可靠与稳定。
应用
  • 光、电、半导体靶材
  • 蒸镀材料
  • 各种单靶溅射系统和多靶溅射系统
  • 离子溅射系统